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Mesure 4 points 30 mm chuck 12"" : KSR-4 Agrandir l'image

Mesure 4 points - résolution 30 µm, chuck 6" : KSR-4 | Everbeing

Station KSR-4 pour mesure 4 points de résistance de feuille et résistivité sur couches minces, wafers et films, avec support wafer 6", résolution de levier 30 µm et options de chuck.

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Description

Le Mesure 4 points - résolution 30 µm, chuck 6" : KSR-4 est une station de mesure quatre pointes destinée aux mesures de résistance de feuille et de résistivité sur échantillons en couches minces, wafers, films et échantillons en verre.

Le modèle KSR-4 est une station économique équipée d’une base large et d’un système de descente par levier. Ce levier conserve sa position sur toute la plage de mouvement, permettant à l’utilisateur d’ajuster la profondeur de contact souhaitée.

Avantages

  • Mesure quatre pointes : adaptée aux mesures de résistance de feuille et de résistivité.
  • Support wafer 6" : compatible avec des échantillons jusqu’à 6" (150 mm).
  • Résolution de levier 30 µm : permet un ajustement progressif du contact avec l’échantillon.
  • Pointes à ressort indépendantes : favorisent le contact avec des substrats présentant des irrégularités de surface.
  • Raccordement simple : connexion par câbles banane vers un multimètre numérique ou une SMU.

Caractéristiques principales

  • Modèle : KSR-4.
  • Type : station de mesure quatre pointes.
  • Dimensions : 350 x 350 x 180 mm.
  • Poids : 5 kg.
  • Taille du support wafer : 6" (150 mm).
  • Résolution du levier : 30 µm.
  • Nombre de pointes : quatre pointes à ressort.
  • Matériau des pointes standard : BeCu.
  • Espacement standard des pointes : 1600 µm.
  • Force par pointe : 42 g.
  • Connexions électriques : 4 connexions banane femelles.
  • Matériau du support wafer : Téflon.
  • Option de pointes : carbure de tungstène, espacement 1000 µm, diamètre 40 µm.
  • Option de déplacement de chuck : course 6" x 6" en X et Y.
  • Option chuck chauffant : taille 4" (100 mm), température de la température ambiante à 200 °C, résolution 0,5 °C.

Applications typiques

  • Mesure de résistance de feuille sur couches minces.
  • Mesure de résistivité sur wafers et matériaux semi-conducteurs.
  • Contrôle de rendement lié aux recettes de fabrication.
  • Mesure sur films et échantillons en verre.
  • Caractérisation d’échantillons avec raccordement à un multimètre numérique ou une SMU.

Pourquoi choisir Mesure 4 points - résolution 30 µm, chuck 6" : KSR-4

Le KSR-4 constitue une solution adaptée aux mesures quatre pointes sur wafers et couches minces, avec un support wafer 6", une résolution de levier de 30 µm et une architecture simple à raccorder à un instrument de mesure externe.

ES France accompagne les utilisateurs dans le choix de la configuration de mesure, des pointes et des accessoires de chuck selon les contraintes d’échantillon, de manipulation et d’intégration en laboratoire.

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