Description
Le HERON 80 est un système plasma polyvalent de laboratoire haut de gamme conçu pour les applications suivantes : nettoyage, modification et activation
Il peut opérer sur des différents matériaux comme des métaux, plastiques, céramiques, papiers et autres
Son interface conviviale avec écran LCD couleur tactile fait du HERON 80 une solution polyvalente et facile à mettre en œuvre pour les moyennes productions ou les applications R&D.
Le HERON 80 est complètement pilotable par un microcontrôleur, avec ce système il est possible d’exécuter des traitements sur une des échantillons préparés par l’utilisateur.
En utilisant une valve aiguille de haute précision, un flux de gaz est introduit dans la chambre de traitement.
Un signal à basse fréquence (50 kHz) est alors appliqué aux électrodes à l’intérieur de la chambre, cela va interagir avec les molécules de gaz afin de passer en état de plasma.
Le plasma généré va générer un type d’ions négatifs qui va interagir avec les premières monocouches de la surface du substrat à traiter.
Le résultat de ce process pouvant être modifié en agissant sur les paramètres (débit de gaz, force du signa, durée …)
Caractéristiques techniques :
- Équipement
- Dimensions : 700 x 600 x 1750 mm
- Poids net (sans la chambre à vide) : 130 kg
- Dégagement : gauche, droite, devant : 600 mm, arrière : 254 mm
- Chambre :
- Matériau : aluminium
- Volume max échantillon : 22,5 Litres – diam 343 mm et L : 280 mm
- Électrode :
- Configuration : plane et parallèle avec bouclier foncé
- Surface active de travail : 239 x 250 mm
- Écart d’électrode : 168 mm
- Matériau : aluminium
- Signal RF :
- Puissance max de sortie : 600 W
- Fréquence : 13.56 MHz
- Gaz de process :
- Débits possibles : 10, 20, 50, 100, 200, 500 sccm
- Nombre max de gaz : 3 (avec contrôleur de débit massique MKS Instruments)
- Interface de contrôle : PLC
- Par microcontrôleur
- Interface utilisateur : écran tactile LCD couleur
- Alimentation 220 V - 50 HZ
- Entrée de gaz : 6 mm diamètre externe avec raccords de compression
- Gaz de purge conseillé : N2, Air avec pression min 0,8 bar et max 1 bar
- Sortie NW16 ISO-KF
Avantages :
- Système plasma de laboratoire haut de gamme polyvalent, fiable et facile d’emploi
- Bon rapport prix-performances
- Résultats uniformes et répétables
- •Fabriqué avec des composants de haute qualité
- Capacité de mémorisation de données
- Puissance RF réglable de 1 à 600 W
Applications types :
- Semiconducteurs
- Optique et ophtalmologie
- Industrie textile
- Biomédical
- Mécanique de précision
- Industrie plastique
