Nettoyeur plasma à vide : GD-10 RF | FARI PLASMA

Le GD-10 RF est dédié aux applications scientifiques et aux applications de volume moyen de production.  

Caractéristiques techniques :

Puissance de sortie : 100-300 W 

Fréquence : 13,56 MHz particulièrement adapté au nettoyage plasma des semi-conducteurs 

Volume de la cavité : 10 L 

Dimensions de la cavité : diam 250 mm x 200 X 200 mm 

Cavité fabriqué en acier inox 316 et alliage aluminium 

Gaz standards utilisés : Air, N2, O2, + en option Argon 

Equipé de 3 plateaux   

Dimensions : 600 x 560 x 400 mm 

Avantages :

Bon rapport prix-performances 

Contrôle facile par écran tactile et PLC 

Cavité est résistante à la corrosion et peut-être customisée en fonction des besoins des clients 

Système de contrôle de débit par régulation de précision à aiguille  

Différents canaux de réaction du gaz de process

Structure d’électrode unique pour assurer l’uniformité du plasma   

Applications types :

Nettoyage plasma des puces électroniques pour améliorer leur propreté et mouillabilité de surface 

Fréquence spécifique de puissance plasma à 13,56 MHz dédié au nettoyage des semi-conducteurs 

Plasma permet le meilleur résultat pour le nettoyage des polluants organiques de composants électroniques