Nettoyeur plasma étendu haute puissance : PDC-001-HP/002-HP/CE | HARRICK PLASMA

Avec un taux de nettoyage deux fois supérieur à celui du nettoyeur à plasma étendu PDC-001/002/-CE, le nettoyeur à plasma haute puissance est un instrument polyvalent, adapté à la gravure de films minces organiques (10-100 nm) ainsi qu'à l'activation et à la modification de surface.

Exigences :

• Pompe à vide compatible avec les gaz, avec un débit minimum de 23 l/min et une pression totale maximale de 200 mTorr.

• Pompes à vide compatibles disponibles :
  ◦ Pour le pompage de gaz non réactifs (air, N₂, Ar), consultez les pompes à vide à huile.
  ◦ Pour le pompage d'oxygène concentré ou pur, consultez les pompes de service pour oxygène.

Caractéristiques :

• Appareil compact de table
• Réglages de puissance RF réglables (faible, moyenne, élevée)
• Puissance RF maximale de 45 W (puissance RF faible équivalente à la puissance RF élevée des modèles PDC-001 et PDC-002)
• Chambre en Pyrex de 15 cm de diamètre × 16,5 cm de longueur
• Porte à charnières avec hublot
• Refroidissement par ventilateur actif
• Interrupteur intégré pour pompe à vide (non disponible sur le modèle CE)
• Vanne de dosage NPT 1/8" pour un contrôle qualitatif du débit de gaz et de la pression de la chambre
• Vanne 3 voies NPT 1/8" pour une commutation rapide entre l'introduction de gaz, la ventilation et l'isolation de la chambre
• Poids : 17,9 kg
• Dimensions : 28 cm H × 46 cm L × 23 cm P

Accessoires en option :

• Mélangeur de flux de gaz PlasmaFlo pour le contrôle quantitatif de deux (2) gaz de procédé maximum et la surveillance de la pression de la chambre
• Chambre en quartz pour applications avec gaz réactifs et applications sensibles à la contamination
• Plateau d'échantillons facilitant le chargement et le déchargement de petits échantillons pour le traitement par lots