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Date de disponibilité :
Le système d'écriture laser UV d'Holmarc est un système de photolithographie à écriture directe permettant de créer des micro-éléments géométriques sur un substrat recouvert d'une couche de résine photosensible. Ce système sans masque est équipé d'un laser 405 nm couplé à une fibre à intensité réglable et d'une platine XY haute précision à servomoteur, avec logiciel CNC, pour l'écriture de motifs complexes. Une tourelle motorisée quadruple, équipée de différents objectifs, permet de créer différentes tailles de spot au point focal. Une caméra 3 Mpx avec éclairage LED jaune permet de focaliser l'échantillon afin d'optimiser la taille des éléments. Un logiciel convivial permet le réglage initial du substrat et un logiciel CNC permet l'écriture des motifs à partir de fichiers DXF.
Caractéristiques techniques :
Laser :
Platine d'échantillon motorisée XY-Theta :
Objectifs du microscope :
Objectif Infinity Plan achromatique 60X :
Objectif Infinity Plan achromatique 100X :
Spécifications de la caméra :
Applications :