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Nouveau Système d'écriture laser UV pour photolithographie : HO-LWS-PUV-T Agrandir l'image

Système d'écriture laser UV pour photolithographie : HO-LWS-PUV-T | HOLMARC OPTO-MECHATRONICS LTD

Le système d'écriture laser UV d'Holmarc est un système de photolithographie à écriture directe permettant de créer des micro-éléments géométriques sur un substrat recouvert d'une couche de résine photosensible.

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Description

Le système d'écriture laser UV d'Holmarc est un système de photolithographie à écriture directe permettant de créer des micro-éléments géométriques sur un substrat recouvert d'une couche de résine photosensible. Ce système sans masque est équipé d'un laser 405 nm couplé à une fibre à intensité réglable et d'une platine XY haute précision à servomoteur, avec logiciel CNC, pour l'écriture de motifs complexes. Une tourelle motorisée quadruple, équipée de différents objectifs, permet de créer différentes tailles de spot au point focal. Une caméra 3 Mpx avec éclairage LED jaune permet de focaliser l'échantillon afin d'optimiser la taille des éléments. Un logiciel convivial permet le réglage initial du substrat et un logiciel CNC permet l'écriture des motifs à partir de fichiers DXF.

Caractéristiques techniques :

Laser :

  • Laser à fibre optique 405 nm
  • Puissance laser : 3 mW à la position de l'échantillon
  • Mode de focalisation : Objectif de microscope
  • Diamètre du spot : < 10 µm (selon le grossissement de l'objectif)
  • Mise au point : Motorisée, commandes logicielles

Platine d'échantillon motorisée XY-Theta :

  • Course XY : 100 mm x 100 mm
  • Résolution XY : 1 µm
  • Répétabilité unidirectionnelle : 3 µm
  • Précision de positionnement : 5 µm
  • Résolution de la platine Theta : 0,1°
  • Répétabilité : 0,1°
  • Précision de positionnement : 0,1°
  • Mandrin d'échantillon à vide
  • Tourelle porte-objets : Quadruple, motorisée, commandes logicielles
  • Logiciel : Mach3 CNC

Objectifs du microscope :

Objectif Infinity Plan achromatique 60X :

  • NA : 0,75
  • Distance de travail : 1,22 mm

Objectif Infinity Plan achromatique 100X :

  • NA : 0,85
  • Distance de travail : 0,4 mm

Spécifications de la caméra :

  • Format optique : CMOS 1/2"
  • Dimensions de l'imageur actif : 6,55 mm x 4,92 mm
  • Pixels actifs : 2048 x 1536 (3 MP)
  • Taille des pixels : 3,2 x 3,2 µm
  • Filtre couleur : Motif Bayer RVB
  • Type d'obturateur : Obturateur roulant électronique (ERS)
  • Fréquence d'images : Pleine résolution - jusqu'à 10 ips, VGA - jusqu'à 26,7 ips
  • Plage dynamique des pixels : 61 dB
  • Température de fonctionnement : -30 ºC à +70 ºC
  • Sensibilité : > 1,0 V/lux-sec (550 nm)
  • Interface : USB 2.0
  • Gamme spectrale : 380 nm - 650 nm

Applications :

  • MEMS
  • Semi-conducteurs
  • Microfluidique
  • Dispositifs de laboratoire sur puce

Gamme KYOWA

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